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除醛工艺? 为什么要除硅?

一、除醛工艺?

一是前期治理

要从源头上治理,需要生产商关注消费者的健康,如尽量不使用含有甲醛的原料,改革工艺,降低甲醛的使用,必须使用时要做好修饰工作,这需要国家加大安全认证力度,对消费者说则需要在购买家具、装饰材料时要选择刺激性小的产品。 

二是后期治理

即采用简易的通风、种植绿色植物(这些方法适合室内污染属轻度的),另外是找专业治理机构公司。

物理吸附技术

主要利用有吸附能力的物质吸附有害物质达到去除有害物质的目的,比如颗粒活性炭、活性炭纤维、沸石、分子筛、多孔粘土矿石、硅胶等。

二、为什么要除硅?

天然水中的硅化合物(SiO32-),通常以胶体或分子状态存在,硅化合物在高压锅炉中,易形成铝,铁和钙的盐类,沉积在热负荷较高的水冷壁受热面上成为水垢。分子状态的SiO2又易溶解在高压蒸汽中,随蒸汽进入汽轮机内,沉积在叶片上,形成坚硬的盐垢,使汽轮机出力降低。机组参数越高,硅在蒸汽中的溶解度愈大,危害性也越大,因此必须进行除硅。

在进行水的预处理时,往往采用镁剂除硅。镁剂除硅原理为,在对水用石灰和混凝剂进行处理时,水中的硅化合物通常可降到3-5毫克/升,若同时投加氧化镁(MgO),就会形成氢氧化镁沉淀,Mg(OH2)的颗粒表面能吸附水中大部分硅化合物,然后渐渐变成难溶的硅酸镁,还有一些是由于胶态硅化合物在混凝过程中生成难溶的硅酸钙而被除掉的。氢氧化镁达到一定数量时,则可使硅化合物降低至1毫克/升左右。

三、除硅灰剂配方?

按质量份数计,制备所述除硅灰剂的配方:氧化剂1份~100份、含氟盐1份~100份、稳定剂0.01份~10份、催化剂0.01份~10份、助溶剂0.01份~10份、阻垢剂0.01份~10份和水1份~200份。

在其中一个实施例中,所述氧化剂选自双氧水、过硫酸钾、过硫酸钠及过硫酸铵中的至少一种。

在其中一个实施例中,所述含氟盐选自氟化钠、氟化钾、氟化锂、氟化铵、氟化氢铵、氟化氢钠及氟化氢钾中的至少一种。

四、硅提纯工艺流程?

一般来说,工业制取高纯单晶硅主要采用以下方法:

  ①首先由石英砂和焦炭在电弧炉中制取纯度较低的粗硅

  SiO2+2C==(3273K)Si+2CO↑

  ②然后将粗硅转化为有挥发性并易提纯的四氯化硅或三氯氢硅

  Si+2Cl2==(723~773K)SiCl4

  Si+3HCl==(523~573K)SiHCl3+H2↑

  ③再用精馏法提纯SiCl4或SiHCl3,在电炉中用氢气还原,得到纯度较高的硅

  SiCl4+2H2==(加热)Si+4HCl

  ④最后我们用区域熔融法进一步提纯并制成高纯单晶硅

五、10 硅料清洗工艺?

清洗要求:是用混酸洗(氢氟酸、硝酸),去除表面的灰尘、表面的氧化物、表面的金属杂质及其他一些附属物,使其达到更加的结净度。

a.从原料仓库中领出需要清洗的多晶硅料,由预处理车间用专业的仪器进行检测,剔除不合格的硅料,退回仓库,合格的硅料要按导电类型、电阻率分好类后,标识导入下一个生产流程。

b.分好类的硅料根据现场的要求装入特定的清洗框,1个清洗框装料15kg,放入配比好的混酸液(硝酸与氢氟酸混合液)当中,进行搅拌,时间达到后拿出,放入纯水中清洗,去除残留的酸液,再放入超声波中进一步超声,使其达到更高的品质要求。氢氟酸和硝酸属于挥发性化学品,调配过程需在酸洗车间内进行,且调配过程需将集气罩一并打开,收集调配过程挥发的酸性气体。

六、硅PU施工工艺?

硅PU(Silicon Polyurethane)是一种结合了硅烷和聚氨酯材料的高性能涂层材料,具有极强的耐磨、耐化学腐蚀、耐温性、耐水性等特性,广泛应用于建筑、工业、商业等领域。下面是硅PU施工工艺的主要步骤:

1.基础表面处理:清除表面灰尘、油污、积水等杂质,处理裂缝、孔洞并填补缝隙。

2.底漆涂刷:根据实际需要,选择适合的底漆材料,并按照规定的施工标准进行底漆涂刷。底漆涂刷的厚度和涂刷次数取决于实际情况。

3.中涂涂刷:中涂涂刷主要用来增加表面的平滑度和强度,同时为面漆的涂刷提供基础。根据所用材料,涂刷时间间隔、涂刷厚度等参数有所不同。

4.面漆涂刷:最后一层涂刷是面漆,它在保护基础表面的同时,赋予表面不同的颜色和光泽。面漆的涂刷厚度和涂刷次数根据实际情况而定。

5.固化:根据不同材料的特性,确定适当的固化时间和固化条件。

硅PU施工工艺需要按照一定的标准和规范进行,以确保涂层的质量和性能达到要求。同时,根据不同表面和涂层的特性,也需要选择相应的涂层材料和处理方案,以达到最佳的施工效果

七、什么叫体硅工艺?

体硅工艺,硅时代电子科技,公司拥有强大的MEMS设计与加工实力,具备成熟的光刻、刻蚀、镀膜、封装、测试等微纳加工能力。

八、工业硅清洗工艺?

原料硅矿在生产冶炼前都前需要将其上的土砂等洗净采用使用。而且生产过程中需要使用大量的生产水,因此,在工业硅生产线上会产生携带大量污泥污染物的废水。

目前的实际生产中清洗原料硅矿时都是人工使用水龙头直接冲洗,其清洗不干净,工人劳动强度大,费时费力,清洗速度慢。

针对工业硅生产过程中洗涤水、冷却水耗量大、难处理、能耗高的行业难题,开发了一种用于硅石的高效清洗装置,通过高效的清洗装置使用最少的水将工业硅原料清洗干净,同时产生较少的废水,从而在保证生产原料质量的前提下节约用水。

九、多晶硅到单晶硅工艺过程?

将多晶硅料放在坩埚中,加热后将融融态硅提拉出来。制备方法:将高纯多晶硅放入高纯石英坩埚中,在硅单晶炉内熔化;然后用一根固定在籽晶轴上的籽晶插入溶体表面,待籽晶与熔体熔合后,慢慢向上拉籽晶,晶体便在籽晶下端生长。特点:CZ法较容易及较低成本增加晶圆的尺寸,以吻合微电子元件制造业要求大尺寸、高纯度、高生产率的趋向。含氧量高。

十、半导体工艺参考文献?

《半导体物理基础》、《群论与固体能带结构》